LIMO社は、複雑で連続的に変化する表面形状（キノフォーム）の回折光学素子を製作するための、設計アルゴリズムおよび製作ツールを開発しました。
フォトリソグラフィーやダイレクトの電子ビーム書き込みにより加工された従来のバイナリ回折光学素子と異なり、LIMO社独自のウェハベースの技術によって作製された回折光学素子は、優れた特長を持ちます。
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■ 特長
・ 最大95-97%の高回折効率
・ 不要ゴースト光なし
・ 分割ビームの高均一性
・ 大きいビーム角度が可能
・ 滑らかなプロファイルと材料選択に起因した、高ダメージしきい値
・ 高出力・UV用のFused silicaまたはCaF2など、幅広い材料の選択が可能。高い費用効率
・ ウェハーベースの、量産性の高い技術に基づく最高品質
■ アプリケーション
・ ビームサンプリング
・ レーザ材料加工
・ 高速パターニング
・ 高速ダイシング
・ 穿孔
・ レーザ計測学、センサ
・ 太陽電池用の特殊ビーム整形システム
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■ テクノロジー
ウェハダイシング、高速ドリル、穿孔、表面ストラクチャリングなどのレーザ材料加工、レーザ計測、その他さまざまなアプリケーションにおきまして、均一ビーム分割が要求されます。ビーム分割後の強度の分布は、表面の形状によって決まります。
効率95％以上、均一性±5％以下の高性能を達成するには、特別な設計技術と製造ノウハウが必要です。LIMO社では、その実現が可能です。
また、回折光学素子は、コヒーレントビームを単一の高輝度ビームに合波する用途にも使用可能です。
■ 仕様
| -波長[nm] |
ビーム分割数 [mm] |
ビーム-ビーム角度 [mrad] |
効率 [%] |
データシート |
| 532 |
1:11 |
5 |
95 +/- 2 |
ZLA001691 |
| 1064 |
1:11 |
21.3 |
95 +/- 2 |
ZLA001690 |
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